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宽带隙纳米薄膜制备用复合CVD系统
型号:JZM0350-AB
制造厂商:沈阳聚智真空设备有限公司
购置日期:
生产国别:中国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
用于薄膜的制备
主要技术指标:
1、石英腔体部分: 1.1腔体尺寸:石英腔体(GE)Φ160x700mm; 1.2加热温度: 室温~1600℃,可控可调; 1.3.加热形式:中频感应加热; 1.4.样品可旋转(0-60rpm,可控可调); 1.5.气路系统:质量流量控制器15台(进口); 2、金属不锈钢腔体部分:(以下为腔体可扩展使用指标) 2.1高真空反应沉积室,极限真空度优于:5Pa; 2.2.反应沉积室尺寸:φ200×300mm; 2.3.样品台尺寸为φ50mm,可旋转(速率0~60rpm连续可调);
服务内容:
样品制备
服务典型成果:
用户须知:
苏州大学大型精密贵重仪器设备管理办法 苏州大学大型仪器设备收费管理暂行办法 苏州大学大型仪器设备共享管理办法(试行)
收费标准:
面议
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