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双面对准曝光机
型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M
制造厂商:ABM公司
购置日期:
生产国别:美国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
"功能:用于掩膜拷贝曝光; 应用范围:微光学、微点路、MEMS、微流道等; "
主要技术指标:
主要规格: 1、 光源:350W NUV; 2、 双CCD、双面对准系统;CCD图像倍率:180x~1200x;2个17寸LCD监视器; 3、 支持2、4、6英寸方基片;2、3、4、5、6英寸圆基片;技术指标: 1、365nm光强密度:18-20mW/cm2;400nm光强密度:30-35mW/cm2; 2、均匀性:50mm口径<±1%;100mm口径<±2%;150mm口径<±3%; 3、分辨率:0.6um(接触式);1um(接近式); 4、正面对准精度:±0.5um 5、背面对准精度
服务内容:
样品加工
服务典型成果:
用户须知:
苏州大学大型精密贵重仪器设备管理办法 苏州大学大型仪器设备收费管理暂行办法 苏州大学大型仪器设备共享管理办法(试行)
收费标准:
面议
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