仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
等离子体去胶机
主要技术指标：
1.反应腔室：腔体材料铝；尺寸229nm*330nm*483nm；可抽卸的3层或5层330mm*483mm托盘 2.供气系统：两路气，可拓展至8路气；质量流量计（MFC）控制 3.真空系统：预真空50mTorr；抽预真空时间~1分钟；工艺压力120-2000mTorr 4.射频源：射频频率13.56MHz；功率0-300W连续可调 5.控制系统：清洗流程自动控制；良好图形用户界面
主要功能用途: 等离子体去胶机是光刻工艺所必需的辅助设备，在半导体工艺和生物技术方面都有广泛应用。具体应用可归纳为以下几个
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
300元/小时