仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
反应离子刻蚀机
主要技术指标：
1.刻蚀材料范围：Si、a-Si、SiO2、Si3N4、SiC等硅基材料 2.样品尺寸：下电极尺寸240nm，最大可加工基片尺寸200mm，带有加热与冷却装置 3.射频电源：射频13.56MHz，功率0-600W可调 4.进样方式：开启式进样系统 5.供气系统：8路刻蚀气，包括CF4、CHF3、SF6、N2、He、O2、Ar等 6.控制系统：可设定刻蚀程序，刻蚀过程自动控制；含显示屏，显示工艺状态；具有良好用户界面
主要功能用途: 反应离子刻蚀机是微米纳米器件制备的必备设备。反应离子刻蚀机通过交变的电
服务内容：
介质膜刻蚀加工
服务典型成果：
无
用户须知：
无
收费标准：
600元/小时
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用户 | 项目 | 下单时间 |
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