仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
椭偏测量技术（Ellipsometry）是一种非破坏光学测量技术，基于利用测试偏振光束测量经样品反射（或透射）后导致的光束偏振态的变化，进而进行分析拟合，得到所需光学信息。椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等；也可被用来监控粗糙多晶表面上的膜层生长，实现均匀镀膜等。在科学研究和工业生产的许多领域中获得广泛地应用。
主要技术指标：
光谱范围： 193纳米到1000纳米，500个波长
聚焦光斑尺寸： 25μm X60μm
入射角： 65度
数据采集： 最优性噪比采样时间为1到5秒
可测量参数： 椭偏：ψ（0-90度）和Δ（0-360度）、反射强度比、退偏比
穆勒矩阵： 测量及拟合穆勒矩阵中的11个元素
连续旋转补偿器： 旋转速率20Hz
光束偏离： <1 arcmin
测量模式： 反射式、入射角固定
水平测量平台： 自动Z轴高度，分辨率1μm
300mmXY自动平移台：分辨率2.5μm
360度自动旋转台： 分辨率0.005度
最大样品尺寸： 300mm直径
最大样品厚度： 15mm
服务内容：
服务典型成果：
无
用户须知：
对外服务时间:工作日。参数：光谱范围： 193纳米到1000纳米，500个波长
聚焦光斑尺寸： 25μm X60μm
入射角： 65度
数据采集： 最优性噪比采样时间为1到5秒
可测量参数： 椭偏：ψ（0-90度）和Δ（0-360度）、反射强度比、退偏比
穆勒矩阵： 测量及拟合穆勒矩阵中的11个元素
连续旋转补偿器： 旋转速率20Hz
光束偏离： <1 arcmin
测量模式： 反射式、入射角固定
水平测量平台： 自动Z轴高度，分辨率1μm
300mmXY自动平移台：分辨率2.5μm
360度自动旋转台： 分辨率0.005度
最大样品尺寸： 300mm直径
最大样品厚度： 15mm
。附件：360度自动旋转台,300mmXY自动平移台
收费标准：
面议
推荐仪器