仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
可用于传统集成电路，MEMS，微流控，现代光学新型材料研究等
主要技术指标：
最小结构尺寸0.2um 具有三个不同分辨率的光学镜头，支持基底厚度1-15mm支持Z轴基底翘曲100um
支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光
书写速度不小于10mm2/min@0.5um;40mm2/min@0.5um;80mm2/min@0.5um;
套刻精度小于等于500nm
支持256阶3D灰度光刻
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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