连续制备REBCO超导带多靶材聚焦磁控溅射设备
型号：RCX-400X10,真空应用设备＊磁控卷绕镀膜机,2.5系统可通过WIFI、以太网、RS485、RS232、蓝牙等通讯方式进行远程监测和控制
制造厂商：上海超导科技股份有限公司
购置日期：
生产国别：中国
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功能/应用范围：
多靶聚焦磁控溅射镀膜
主要技术指标：
镀膜方式为卷对卷，含有镀膜腔、磁控溅射镀膜系统、加热系统等三个主要部分；镀膜技术为多靶聚焦磁控溅射；
镀膜腔本底达到1E-6Torr；镀膜腔工艺气体为氩气，工艺气体流量可控。
镀膜腔：磁控溅射含有三个金属阴极，靶材长度不低于300 mm，镀膜区宽度为200mm，靶基距可调（100-130mm之间），功率单独控制；三个靶材高度调整时不相互干涉；
镀膜区加热板最高温度为500度, 控温方式为 PID 自动控温, 连续可调； 热偶植入加热体内；
满足18匝以上卷绕数量，每条带镀膜厚度擦差异在10%以下；条带总长度300米；条带离开溅射区后镀膜面在条带上方向后传输；
可在线监测张力和走带速度，走带平稳均匀，走带速度要求0-150米/小时，长时间工作速度是100-150米/小时，速度在10米/小时内，最大张力为30N。
具有观察窗口，可观察到靶材，带材，加热器等关键部件；
可视化界面，人机界面良好，要求具备安全互锁、24小时监控和数据记录功能。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
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