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功能/应用范围：
本设备集成磁控溅射、电子束蒸发、电阻热蒸发三种真空镀膜方式，满足对不同熔点的材料（金属、金属氧化物、陶瓷材料、小分子等）的镀膜需求，实现对材料成分、厚度、形貌、结晶度的有效控制，助力将设计转化为实物，推动创新的半导体器件产品开发。设备性能达到国内领先水平，功能总体全面，性价比极高。因此，该高真空复合镀膜设备将对开发新兴半导体光电器件（包括大面积太阳能电池及医用X射线成像仪）起到重要的推动作用。配套的化学合成系统包括手套箱、通风橱及其相关附件如旋涂仪、臭氧清洗机等等。这些设备联合高真空复合镀膜设备，可满足从
主要技术指标：
服务内容：
服务典型成果：
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收费标准：
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