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纳米真空互联实验站设备介绍第15期——OMBE 氧化物分子束外延设备

  • 时间:2023-08-21 09:51:43
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  • 纳米真空互联实验站设备介绍之

    OMBE 氧化物分子束外延设备

     
    01

    设备简介
     


    设备型号:Octoplus-O 400


    主要特点:

    最大样品尺寸:2英寸;

    样品加热温度:1000℃;

    生长源:K-cell8个;E-beam source16个源;

    15 keV RHEED及监测系统;

    臭氧引入采用臭氧喷淋装置,使样品制备过程中氧化更加均匀;

    生长腔室采用差分抽气方式,可以有效减少臭氧对源炉的影响;

    不破坏真空环境下,更换生长源;

    需要一定的衬底处理基础,适合外延生长。

     
    02

    真空互联特色

          与STM/SIMIS/SEM/FIB/XPS等多种表征设备通过真空管道互联,以实现准原位的材料表征,来获得薄膜制备过程中表界面原子结构和化学成分变化。同时也可以通其他生长设备比如M-MBE等用于生长异质结结构。


    03

    关键性能指标

    功能:薄膜生长和薄膜生长动力学研究;

    工作压力:UHV+氧氛围;

    样品尺寸2英寸并向下兼容小样品;

    衬底加热温度:1000以上;

    配备:臭氧发生及提纯装置。


    04

    设备功能

    氧化物材料制备


    05

    设备案例



    06

    制样要求

    1. 样品中不得含有水、有机小分子等易挥发、易分解成分;多孔或易潮解样品,需提前真空干燥处理后再进样;

    2. 样品2英寸尺寸可以直接从管道进样;

    3. 小样品建议使用点焊机固定在旗型托上。

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