纳米真空互联实验站设备介绍第15期——OMBE 氧化物分子束外延设备
- 时间:2023-08-21 09:51:43
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纳米真空互联实验站设备介绍之 OMBE 氧化物分子束外延设备
01 设备简介 设备型号:Octoplus-O 400
主要特点:
最大样品尺寸:2英寸;
样品加热温度:1000℃;
生长源:K-cell,8个;E-beam source:1套6个源;
15 keV RHEED及监测系统;
臭氧引入采用臭氧喷淋装置,使样品制备过程中氧化更加均匀;
生长腔室采用差分抽气方式,可以有效减少臭氧对源炉的影响;
不破坏真空环境下,更换生长源;
需要一定的衬底处理基础,适合外延生长。
02 真空互联特色 与STM/SIMIS/SEM/FIB/XPS等多种表征设备通过真空管道互联,以实现准原位的材料表征,来获得薄膜制备过程中表界面原子结构和化学成分变化。同时也可以通其他生长设备比如M-MBE等用于生长异质结结构。
03 关键性能指标 功能:薄膜生长和薄膜生长动力学研究;
工作压力:UHV+氧氛围;
样品尺寸: 2英寸并向下兼容小样品;
衬底加热温度:1000℃以上;
配备:臭氧发生及提纯装置。
04 设备功能 氧化物材料制备
05 设备案例 06 制样要求 1. 样品中不得含有水、有机小分子等易挥发、易分解成分;多孔或易潮解样品,需提前真空干燥处理后再进样;
2. 样品2英寸尺寸可以直接从管道进样;
3. 小样品建议使用点焊机固定在旗型托上。
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