仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
主要技术指标：
在一相对稳定真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材，将原子等粒子溅出，溅出的粒子则沉积于阳极的基板上而形成薄膜。磁控溅射是在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场，由于外加磁场的存在，电子的复杂运动增加了电离率，实现了高速溅射。
技术指标：
装片：一片六英寸衬底、或1片四英寸，向下兼容。
电源：配备射频（0-1kw）和直流（0-3kw）各一套。
真空配置：机械泵+分子泵
极限真空：1.8E-7mbar
基片温度：室
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
1000元/小时+300元/次工艺＋材料费: 30元/10nm(Au及合金、Pd等)或20元/100
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