仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
激光直写系统是一种灵活、经济、高分辨率的图形定义系统，主要用于光刻掩膜版的制备以及光刻图形的直接定义。
主要技术指标：
晶圆尺寸：最大9'*9' 光刻最小线宽：0.6um 自动套刻，对准精度0.5um 具备灰度曝光功能
服务内容：
掩膜版制备及直接的样品图形化加工
服务典型成果：
用户须知：
遵照中国科学技术大学公共实验中心对外共享统一规定
收费标准：
面议