仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
定量分析掺杂元素和杂质元素的浓度，薄膜的成分和厚度等，广泛应用于半导体材料的成分测定，用于制造工艺的校正，有助于提高产品良率
主要技术指标：
（1）一次离子源：配备氧源和铯源，可以对H-U进行元素分析；
（2）样品储存仓，可以储存6个样品架；
（3）高真空系统，分析仓真空E-10 mbar,离子源真空E-8 mbar，质谱系统真空E-9 mbar；
（4）接收器：电子倍增器（噪音低于0.3 counts/min）、法拉第杯(噪音低于2E-15 A)；
（5）电子枪：中和导电性差或绝缘样品分析过程中的积累电荷,电流强度最高达50 μA以上；
（6）静电分析器和磁场：用于筛选不同离子，质量分辨率优于20000；磁场稳定性优于15 ppm(10分钟)；
（7）数据分析重复性优于2%。"
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
2000~5000