仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
1.强磁场下薄膜原位生长与后退火处理
2.强磁场下块材的制备及后退火处理
主要技术指标：
无
服务内容：
强磁场下脉冲激光制备功能性氧化物薄膜
服务典型成果：
用户须知：
遵照中国科学院对外开发统一管理规定
收费标准：
面议