仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
具有横截面切割、平面抛光功能，同时具备在同一腔体内进行离子束镀膜功能，且能够进行膜厚测量，抛光完成后可以直接镀膜处理
主要技术指标：
离子枪角度：0°到+18°，每只离子枪可独立调节；
离子枪束能量：0.1keV~8keV, 可在不同电压下自动优化离子束束流；
抛光面积：平面抛光区域直径≥10mm，横截面≥2mm×2mm；
样品更换：样品更换时间<1min，无需破样品室真空；
冷台部分：带有液氮冷台，以及精确控温系统，一次加注液氮续航能力6-8小时；
控制部分：10英寸触摸屏控制，菜单化操作，并支持抛光程序的设定和储存；
耙材装置：同时安装两种靶材，在不破真空的情况下，可自由选择不同靶材进行镀膜，可配备常见所有种类金属靶材、碳靶材甚至氧化物靶材；
离子抛光结束后可直接在同一真空腔体中进行镀膜，无需取出样品，实现一站式解决高端电制样需求；
采用无油真空系统：无油机械泵+分子泵系统两级泵系统，其中分子泵抽气速率为80L/s；
配有CCD实时观察系统，最高放大倍数不低于2200倍，同时配有专用拍照软件，且能够对结果进行量测等后期数据分析；
带有真空转移系统，能够保证样品从真空或惰性保护性气氛类手套箱等设备之间的传输，避免样品与空气接触；
服务内容：
应用于材料、电子、半导体、食品和生命科学等领域的截面样品制备和平面样品无应力抛光
服务典型成果：
用户须知：
按照学校共享规定
收费标准：
面议