仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
次级电子和背散电子可以用于成像； 特征X射线，背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关，可用于成分分析。
主要技术指标：
放大倍数 5-300，000倍
解析度 高真空：3nm(30KV) 8nm(3KV) 15nm(1KV) 低真空:4.0nm(30KV)
电子枪 全自动，亦可手动调整
样品台大全对中型X=80mm，Y=40mm，Z=5到48mm，倾斜：-10 - +90度，旋转：360度
灯丝 工厂预对中灯丝（钨）
图像模式 二次电子像，成份像，拓扑像，阴影像
加速电压 5-30KV
聚光镜 可变焦聚光镜
物镜 超级锥形物镜
物镜光阑 3档，X-Y可细调
电位移 ±50微米
自动功能 聚焦，亮度，衬ǯ 怂占ᲀ ᲀ뗐窡 窡占ᲀ�窥占ᲀ먡窡㐰ǟრ痁䠀ᑧრ痁჻痁 㟈Ǜ 㟈Ǜ 杻㟈Ǜ㟈Ǜ"翻律㟈Ǜ
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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