主要技术指标与功能条件及特点：l.1、极限真空(空载 ):≤5×10-5Pa；1.2、工作真空:≤5×10-4Pa(充入干燥纯氮气条件下 ,分子泵正常工作30分钟内达到)；1.3、真空室体结构:于前、后两面均设置大口径型活动密封门。使之具备和手套箱贯通,也可独立密封实施薄膜沉积的双重结构条件；1.4、成膜工艺条件：(1)、对样品电动360°连续旋转沉积,0—30转/min范围内可在线调节；(2)、样品衬底 -掩模板集成:各2套 ,可分别承装样品的规格和数量如下：15mm×15mm样品,可承装9块/次；25mm×25mm样品,可承装4块/次；100mm×100mm样品,可承装4快/次(使用嵌入式样品架)；(3)、金属薄膜蒸发源:4套,金属蒸发源的电热器:为钼舟和螺旋状钨丝舟两种加热器均可兼用。4套：a、钼舟状/蒸发源:2套,工作温度≤+1400℃ (用于金、银、镍、刚、铜等材料蒸镀)；b、螺旋状钨丝舟型/蒸发源:2套,工作温度：≤+1600℃(以将铝可蒸发为准)；各源均配置独立挡板和独立隔离仓并具良好屏蔽效果,将每套源之间材料交叉污染予多有效控制的防范作用；(4)、在原位真空氛围对各源的蒸镀工位可在线进行选择与调换:由蒸镀工位控制电源对蒸发源的蒸镀工位予在线选择和调换。(5)、可仅用一套源独立蒸镀或一套源主蒸另外一套源可及时掺杂或两源共蒸镀。l.5、蒸发距离:270mm(±100mm范围内可调节)；1.6、沉积转台和挡板等真空动密封机构漏率:≤1×10-10Torr•L/s；注：已达超高真空指标,可在沉积过程中有效避免其它微量气体元素的渗入和影响。

面议