仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
该设备用于制备高质量、厚度精确控制的金属（特别是高熔点金属）、氧化物以及化合物薄膜，主要蒸镀材料包括：Au，Ag，Al，Ca，Cu，Cr，Ti，Pt，W等金属单质和SiO2, ZnO, Ta2O5,ITO, TiO2, Al2O3等氧化物薄膜材料。
主要技术指标：
真空腔室 SUS304不锈钢，Φ550×H600mm，双层水冷，立式前开门结构；
真空室内表面及防污板抛光至镜面；
真空系统 复合分子泵（抽速：1600 L/s）+直联旋片泵（抽速14 L/s）；
“两低一高”数显复合真空计（测量范围：1×105 Pa～1×10-5Pa）；
真空极限 优于2.0×10-5Pa；
抽速 抽至5.0×10-4Pa≤30min；
基片台 标配：平板式基片台
抽屉式结构，基片托尺寸：150×150mm，该范围内可装卡各种规格的样品/基片；
样品台配有气动挡板，磁流体密封；
样品台旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中心位置方便取样；
样品掩膜：提供一块掩膜板（掩膜图案客户提供）；
电子束蒸发源 e型电子枪一支，枪功率8KW；束偏转角270度；
配置一套偏转扫描电源，一套电子枪灯丝电源；
热蒸发源及蒸发电源 2组蒸发源，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计，源间有隔板，源上有挡板；
1台2KW蒸发电源，可采用恒流/恒功率控制，可以预设工作电流；
速率和膜厚控制系统 采用Inficon薄膜沉积控制器在线监测、控制蒸镀速率和膜厚
服务内容：
广泛应用于高校、科研院所制备金属/化合物，/导电薄膜/光学薄膜等。该设备可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑，其作为一款基础通用型实验室设备，与薄膜材料制备相关的各学科都可以使用。
服务典型成果：
用户须知：
1) 产品质保期为3年；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外），质保期内由于设备本身原因而引起的零配件的更换，其费用由我公司承担。
2) 建立客户设备信息档案，随时跟踪设备运行及维护，保证设备正常运行。
3) 本公司在接到故障通知2小时内给予解答；对于设备故障，公司在接到故障通知后北京地区12小时内派技术人员到达现场处理，外阜地区48小时内到达现场。
4) 质保期以外对设备终身维护，我公司只收取成本费，免除服务费。
5) 所有配件、备件质保期外可长期按成本价及时提供。
收费标准：
面议