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上海理工大学
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超高精度3D打印系统
型号:nanoArch S140
制造厂商:深圳摩方材料科技有限公司
购置日期:
生产国别:中国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
用于微尺度超高精度3D打印,用于光学器件和材料的打印研究。完成光学设计后,输出光学器件的三维模型,将三维模型导入超高精度3D打印系统,可以一次成型光学器件,无需开模和注塑等工序,节约物料成本并提升研发的效率。
主要技术指标:
超高精度微纳3D打印机 (1)光源:UV-LED (405nm) 曝光精度:7.56μm (2)打印精度 (a) XY打印精度:≤ 10μm (b) 打印层厚:≤10μm (3)打印样品尺寸 样品尺寸:≥ 14*8mm 样品高度:≥ 45mm (4)打印速度 (a) 打印层厚为10μm时,打印速度≥ 3mm/h (b) 打印层厚为20μm时,打印速度≥7mm/h (5)精密涂层系统 (a) 离型膜厚≤ 50μm (b) 离型膜的可见光透过率≥ 90% (6)光学平台 (a) 固有频率:垂直:1.0-2.0Hz;水平:1.0-2.0Hz (b) 工作压力:0.2-0.4MPa (c) 空气源:静音空气压缩机<50dB (d) 隔振频率: 垂直:5Hz 82~88%;10Hz 86~95% 水平:5Hz 78~86%;10Hz 84~92%
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
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