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上海理工大学
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深紫外干涉光刻用激光器
型号:FQCW266-200
制造厂商:CryLaS GmbH
购置日期:
生产国别:德国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
用于光刻、分析、成像等的研究
主要技术指标:
1.1、 波长:266nm 1.2、★ 输出功率:200mW,且20-220mW范围内可调 1.3、★ 线宽 < 300kHz 1.4、 相干长度 > 1000m 1.5、 M2 < 1.3 1.6、 光束发散角(全角)< 0.8mrad 1.7、 功率稳定性 < 1% rms in 8 hours 1.8、 噪声 < 0.5%rms(100kHz-10MHz) 1.9、★ 激光头一体化设计,全部密封,接上电源即可输出高质量光束,无需客户繁琐操作调整光束,热机时间 < 15分钟 1.10、 激光器采用风冷,无需水冷 1.11、★ 激光器晶体自动切换工作点,延长使用寿命,寿命可达7500小时 1.12、 单纵模,TEMOO模式输出 1.13、 配备配套光束整形元件 1.14、 配备光束分析仪可以对激光器进行分析 1.15、 精密XY位移台,配套控制器 包件二:超快超宽光谱可调协激光系统 1、 飞秒振荡器(内置) 1.1、★ 带宽调谐范围:10-60nm(计算机自动调谐) 1.2、 波长调谐范围:780-820nm(计算机自动调谐) 1.3、★ 输出功率:> 450-750mW
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
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