仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
其工作原理是将激光源放置在真空室外部，以脉冲激光照射使待镀材料表面使其瞬间蒸发，并定向沉积到衬底上。因此PLD系统是制备高熔点、多组元氧化物薄膜的首选仪器。应用领域为新材料。
主要技术指标：
沉积室为直径18英寸的316不锈钢球形腔体，镜面抛光，本底真空优于5*10-9毫巴。预真空室为316不锈钢柱形腔体，镜面抛光，本底真空优于5*10-8毫巴。样品台系统包含一个X/Y/Z操控平台，一套2"SiC加热器，一套激光加热器。 SiC加热器能在一个大气压空气中在850℃以上长期工作，配备K型热电偶。激光加热器要求开始加热30s内温度大于1000℃，能在一个大气压氧气中长期工作。配备3个2"靶材,配有靶材挡板，每个靶材均可实现自转、公转和摆动。系统应配备2套Pfeiffer分子泵及其前级泵，2套Inf
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
100元/小时