仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ50mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。
主要技术指标：
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。
基本指标1. RESOLUTION：0.5μm
2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
4. STEPPING ACCURACY
服务内容：
为客户样品进行曝光
服务典型成果：
PSS样品曝光等等
用户须知：
需经过培训考核通过后才可独立上机操作
收费标准：
1200元/小时,包括光刻胶费用。特殊优惠价格，30分钟为基本时间单元