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低场核磁共振成像与分析系统
型号:NMI20-030V-I
制造厂商:上海纽迈电子科技有限公司
购置日期:
生产国别:中国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
肿瘤检测,多种组织成像,磁共振造影剂分析及成像
主要技术指标:
A.磁场强度:0.96T;磁场均匀度:≤20ppm(Ø60mm球体);磁场稳定性:≤300Hz/Hour;磁体温度:非线性精准恒温控制,25~35℃范围内可调; B.频率源:脉冲频率范围1~45MHz;频率控制精度0.1Hz,脉冲精度:100ns; 射频发射功率:峰峰值输出大于300W; C.成像梯度:X、Y、Z三个方向梯度功放的梯度强度峰值大于7.5Gauss/cm; D.探头25mm分析探头、40mm成像探头 E.采样速率:50MHz,相位控制精度优于0.1℃,时序分辨率:20ns,频率分辨率:0.0000007Hz;
服务内容:
磁共振造影剂分析及小鼠MRI活体成像
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
面议
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