仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
低温原子层沉积设备，用于沉积Al2O3/TiO2，工艺温度＜100℃条件下，实现低水氧透过率、高膜层质量及均匀性
主要技术指标：
沉积速率，Al2O3≤15s/cycle；沉积温度 T: 80~110℃. 膜面向下
薄膜厚度均匀性（量测去边15mm，单片基板量测点数≥25点）
薄膜厚度均一性-基板内，Al2O3: ≤2%
薄膜厚度均一性-基板间：Al2O3:≤3%
折射率（波长：632.8nm）Al2O3: 1.59~1.65
透过率(波长550nm)：T≥95%
薄膜应力（C：挤压应力；T：拉伸应力）
Al2O3: < 200Mpa.
不能出现Mura
服务内容：
1：负责无机成膜，recipe建立
2：我司负责基板清洁，投入，生产并产出
3：负责膜厚测试，数据产出并共享
服务典型成果：
用户须知：
1：使用前至少需1周提出申请并完成我司内部审核
2：操作需由我司技术员级别以上进行
收费标准：
面议