仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于微纳图形刻蚀加工，配备激光和光谱终点检测，具备衬底冷却功能，自动气压控制，含氟废气处理功能，采用抗腐蚀性真空泵组，自动进行刻蚀工艺操作（手动取放样）
主要技术指标：
最大可支持6英寸；刻蚀室极限真空度：≤6*10-5 Pa；RF Plasma射频发生器功率3 KW； RF Bias射频发生器功率300W； 最低工艺气压2mTorr；工艺气体气路4路; 片内刻蚀均匀性（6英寸）：≤+/-5%；片间刻蚀均匀性（6英寸）：≤+/-5%。
服务内容：
仅限于Mo薄膜材料的刻蚀
服务典型成果：
用户须知：
1、样品尺寸：6英寸及以下方片或碎片
2、仅用于Nb薄膜刻蚀
收费标准：
面议