仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
金属及氮化物超导材料制备；
主要技术指标：
背景压力：超高真空（~7e-11 torr）；
样品尺寸: 2英寸，兼容旗型样品托；
衬底加热温度：生长腔最高1000℃，预处理腔最高1300℃；
配备氮等离子源、氧等离子源；
配备冷嘴Al材料蒸发源；
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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