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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
本设备需实现200mm方片基板的刻蚀、清洗,实现高精度线宽控制、大宽长比、高均匀性侧壁断面控制等多方面性能要求。
主要技术指标:
刻蚀均匀性指标:刻蚀ITO≤a±3%,刻蚀Mo≤a±5%,初始均匀性为a。
服务内容:
无
服务典型成果:
无
用户须知:
收费标准:
面议