仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
喷涂光刻胶，配合刻蚀工艺使用
主要技术指标：
1.基片夹具尺寸：3”-6”圆片； 2.可适用于硅片、玻璃片及陶瓷片等； 3.基片转速：10-10000rpm，连续可调，转速不稳定性不大于±1%； 4.基片喷胶旋转加速度：0-40000rpm/s，连续可调； 5.深几何图形结构各个面（侧面、底面和顶面等）的均匀喷胶； 6.喷胶均匀性（片内、片间、批间）：±10%（在圆片的表面）； 7.涂胶方式：可编程设定圆片的中心滴胶、边缘滴胶和区域滴胶； 8.涂胶均匀性（（片内、片间、批间）：±3%； 9.喷胶流速：10-5000微升/秒
服务内容：
喷涂光刻胶，配合刻蚀工艺使用
服务典型成果：
喷涂光刻胶，配合刻蚀工艺使用
用户须知：
800/h
收费标准：
面议