仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
晶体半导体材料的超精密抛光，精抛光工艺。
主要技术指标：
在厂商指定工艺参数条件下，精抛光2英寸蓝宝石衬底的材料去除率为1微米，表面为镜面无划痕无损伤，表面粗糙度小于1纳米，厚度差小于3微米。
服务内容：
无
服务典型成果：
无
用户须知：
无
收费标准：
面议
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用户 | 项目 | 下单时间 |
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