仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
低压化学气相沉积（简称LPCVD）是在低于大气压的环境下，通过化学反应，在样品表面沉积薄膜的一种技术，由于其制备的薄膜具有优良的物理化学性能，在半导体器件工艺中一直扮演着重要的角色
主要技术指标：
最高温度：900℃;
片内均匀性：<±5% ;
片间均匀性：<±5% ;
样品尺寸：6英寸向下兼容;
薄膜材料：氮化硅;
服务内容：
薄膜材料：氮化硅;
服务典型成果：
薄膜材料：氮化硅;
用户须知：
2小时起约
收费标准：
面议