仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
大面积沉积薄膜制备
主要技术指标：
真空度可达10-4Pa；基片加热温度可达800℃；基片和靶材可自转；四靶位；配备等离子枪。
服务内容：
暂无
服务典型成果：
用户须知：
暂无
收费标准：
面议