真空室内腔尺寸：直径×高度＝ø900×950mm3；极限真空度：优于5×10-4 Pa 漏率要求：（真空室，不安装离子源及溅射靶，冷态。真空抽至6.0×10-3 Pa后，关闭高阀，真空度降至1.0×10-1 Pa时间不少于15分钟。）；恢复真空：抽气速率：<20分钟（从大气—3.3×10-3Pa）常温状态；真空室材料：整个真空室采用SUS304不锈钢材料制造，内表面抛光，外表面喷丸处理；真空室结构：真空室壳体壁厚：8mm 真空室水套壁厚：3mm 镀膜室顶板及底板厚度：≥28mm 镀膜室门框及法兰厚度： 30mm 前开门结构 观察窗材质：304不锈钢 空室顶部及底部均有水冷，镀膜室侧壁，门，水冷挡板，弧源、法兰等均有，4进4出管路备用；屏蔽板：采用304不锈钢材料制造，方便拆卸、互换；公转速度：采用最高 1-5 转/min 连续可调（公转）、交流变频调速器调速；挂具杆：8根公自转杆+4根公转杆、承重≥400kg；机械泵：2X-70旋片泵一台，泵抽速70升/秒；罗茨泵：ZJP-300罗茨泵一台，泵抽速600升/秒；扩散泵：KT-500 凸腔扩散泵一台，泵口径：500mm、扩散泵带观察油镜、水平调节支脚和快速急冷水水槽；电炉盘采用 PID 温控表控温，温控精度达：±1.5度，节能及稳定扩散泵工作；维持泵：2X-15旋片泵一台，泵抽速15升/秒；管道、阀门：减震采用金属波纹管、全部气动控制阀门，操作简便、可靠性高、阀门采用铝合金气缸和组合式换向阀组、真空室排气口带节流阀，双工位，角度可调；电弧镀膜系统：弧源直径：弧源法兰¢255mm，靶材尺寸¢100×40mm，弧源数量：8 个，稳弧电流：38-40A（钛靶），引弧方式：电动，自动引弧，断弧自动恢复，粘弧保护；磁控溅射镀膜系统：溅射靶尺寸：700×100mm 矩形，非平衡磁控溅射靶，对靶结构，溅射靶数量：2 个；电动挡板：电动屏蔽板，保护溅射靶防止污染；控制系统：真空显示：复合真空计，高真空规管和双热偶。真空系统及转架控制：控制真空系统的泵及各管路阀门；流量控制：四路控制及数字显示调节气体流量，质量流量计控制；温度控制：智能温控仪，PID控制调节镀膜室加热温度；偏压控制：单极脉冲轰击偏压电源，电压及占空比 可调；溅射电源：中频脉冲恒流源，电压可调；弧源控制：八路弧源，电流调节显示；弧电源柜：八台250A逆变弧电源；控制系统规格参数：偏压电源：脉冲直流，频率 20KHz，功率 20KW，高压档 500-1200V，低压档 0-500V。溅射电源：中频脉冲，频率 40KHz，功率 30KW，镀膜时 200-700V 可调。偏压控制：电压可调，占空比 5-95%连续可调。加热电源：智能温控仪，加热功率 20KW，PID 功率智能输出。供气系统：四路数字调节控制，四台质量流量计，1000ml/台×3+500ml×1。工件转速：0-5 转/分钟（公转），变频调速器调节，辅助脚踏开关调节转架挂杆位置。电控特点：真空排气系统以及膜层沉积系统等操作步骤安全互锁。控制方式：PLC 程序控制+手动工艺操作，双模式操控，可随时切换。挂架结构：上转架，挂杆行星式公自转，主轴采用 磁流体密封。自控配置：研华工控机，80G 硬盘，512 内存+日本三菱 PLC，15 吋液晶显示触摸屏界面。电控柜：采用独立式电控柜、带独立滚轮。电气元件：主要采用法国施耐德品牌或韩国 LG品牌产品，产品故障率低。

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