仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
大面积沉积薄膜制备。
主要技术指标：
超高真空、分子束外延辅助生长、RHEED原位监控、与STM兼容、激光加热样品、原位沉积电极。该设备可以实现靶材和样品的方便快捷更换，满足不规则小尺寸单晶靶材的生长。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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