仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
1. 干法刻蚀后光刻胶灰化（去胶）；
2. 基片表面等离子改性（O2或N2)。
主要技术指标：
技术参数：型号：M4L 整机尺寸：820mm×730mm×820mm（长×宽×高） 反应室尺寸：330mm×229mm×508mm（宽×高×深） 电极板：3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极 射频电源：13.56MHz，0 ~ 600W 匹配网络：阻抗自动匹配 气路系统：标准配置为2路工艺气体，500SCCM，最多可扩展至4路。 操作系统：PC全自动操作或手动操作，LCD触摸屏控制 主要特点：（1）PC全自动操作，保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。 （2）LCD触摸屏控制，设备实际运行中
服务内容：
无
服务典型成果：
无
用户须知：
收费标准：
150元/小时，15分钟为基本时间单元。