PEEM 光发射电子显微镜

    结合真空互联技术，能够将样品在不受到大气污染的条件下进行制备、转移和测试分析。进而获得样品生长动力学、反应动力学过程，揭示其中的微观机理。

空间分辨率：PEEM 10nm，LEEM 5 nm；

时间分辨率：50 ms；

原位测试温度：RT- 1500 K；

原位工作压力：3×10^-10~ 3×10^-5 mbar；

准原位工作压力（与UHV-CVD联用）：3×10^-10~ 1 bar；

准原位测试温度（与UHV-CVD联用）：RT- 1400 K。

1. 原位动态表面成像

2. 功函数成像

3. 微区LEED测试

     基于超高真空互联的表面成像（PEEM/LEEM，STM）、表面谱学（XPS、TOF-SIMS）多重（准）原位真空互联生长和表征技术，系统的研究了近表层Ar纳米气泡对Ru(0001)表面石墨烯的生长、拼接和刻蚀演化过程。研究结果表明：近表层Ar纳米气泡的引入，能够显著削弱基底表面台阶限制作用和“薄膜-基底”界面相互作用，提供了类似液态基底的freestanding的环境，实现了“各向异性-各向同性”的生长模式转变，圆形石墨烯岛的无缝拼接，以及刻蚀和再生长驱动的“圆形-六方（Wulff结构）”形貌转换。并且首次观察到拼接过程中反常的生长加速现象，这是由于生长单体在表面迁移寿命显著增加导致的。石墨烯作典型的2D材料，以它为基础得出的科学规律和结论可以很好的推广到其他2D体系。我们可以做出合理化的预测：采用含有近表层Ar纳米气泡的Ru(0001)表面能够实现多数二维层状材料（包括硫化物、碳化物等）的各向同性生长、外延拼接和Wulff结构。该成果以封面文章和editor’s recommendation的形式发表在Nano Research 期刊(Growth, coalescence, and etching of two-dimensional overlayers on metals modulated by near-surface Ar nanobubbles. Nano Research 2022, 15(3): 2706−2714).

石墨烯在干净表面Ru(0001)_-CLE和含有Ar纳米气泡的表面Ru(0001)_-NSA 生长的多重真空互联（准）原位表征

1. 基片平板类样品；

2. 5 mm×5 mm <尺寸<8 mm×8 mm，厚度小于3 mm；

3. 导电性良好；

4. 平整度良好，表面粗糙度小于5 nm；

5. 最好是单晶样品；

6. 样品为导电样品。