仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构
主要技术指标：
1基本功能：退偏指数、PSI/DELTA
2. 光谱范围：245-1000nm（可选配扩展至 193-1000nm）
3. 单点测量时间：≤10s
4. 入射角范围：定角 65°
5. 光斑尺寸：大光斑 4mm
6. 膜厚量测范围：10Å~150000Å
7. 膜厚重复性测量精度：0.01nm（100nm 硅基 SiO2 样件，30 次重复测量，1σ）
8. 折射率重复性测量精度：0.001（100nm 硅基 SiO2 薄膜，30 次，1σ）
9. 折射率绝对精度：±0.01（100nm 硅基 SiO2
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
询价