仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
可实现对金属膜、化合物膜、硬质膜等各种薄膜材料进行高性能干法刻蚀。
主要技术指标：
1. 刻蚀室真空度极限：≤9×10-5Pa
2. 刻蚀材料：各种金属薄膜、硬质薄膜等
3. 刻蚀速率：≥100 - 2000À/min (与刻蚀材料和工艺有关)
4. 离子源： 口径 12cm射频离子源。
5. Ar+离子能量范围：100 - 1000eV
6. 离子束功率密度：1w/cm2
7. 离子束流密度：  1mA/cm2
8. 离子束有效直径：≥75mm
9. 刻蚀工作台（最大刻蚀面积）：15cm
10. 工作台旋转方式：自转 0 - 30rpm。
11. 刻蚀角度：可调节，倾角调整角度 0 - 90°。
12. 刻蚀距离：可调节，调节范围18-22cm。
13. 刻蚀不均匀性：±5%（Φ3英寸范围内）
14. 电源稳定度：±1%
服务内容：
无
服务典型成果：
无
用户须知：
对外服务时间:周一至周五8:00 - 17:00。参数：1. 刻蚀室真空度极限：≤9×10-5Pa
2. 刻蚀材料：各种金属薄膜、硬质薄膜等
3. 刻蚀速率：≥100 - 2000À/min (与刻蚀材料和工艺有关)
4. 离子源： 口径 12cm射频离子源。
5. Ar+离子能量范围：100 - 1000eV
6. 离子束功率密度：1w/cm2
7. 离子束流密度：  1mA/cm2
8. 离子束有效直径：≥75mm
9. 刻蚀工作台（最大刻蚀面积）：15cm
10. 工作台旋转方式：自转 0 - 30rpm。
11. 刻蚀角度：可调节，倾角调整角度 0 - 90°。
12. 刻蚀距离：可调节，调节范围18-22cm。
13. 刻蚀不均匀性：±5%（Φ3英寸范围内）
14. 电源稳定度：±1%
。附件：全自动反应离子束刻蚀机 MRIBE-150
Veeco射频离子源 12cm RF
收费标准：
面议