仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
氧化物薄膜样品的制备。
主要技术指标：
激光：248 nm KrF，能量250 mJ，重复频率100 Hz，脉冲时间＜2.5 nsec.
真空室：球型真空室尺寸φ450mm，极限真空：6.67E-7Pa,衬底温度＜800℃。
服务内容：
可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
服务典型成果：
用户须知：
可镀工件尺寸：直径25 mm或直径60 mm×厚度3-5mm，极限真空度：6.67×10-5Pa，
样品加热温度范围：25℃-800℃
收费标准：
面议