仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
采用磁控溅射镀膜设备在柔性薄膜衬底表面沉积功能薄膜，满足柔性、可穿戴电子器件产品的工艺需要。
主要技术指标：
（1）配备了张力控制和衬底升/降温系统，可有效解决衬底的自行翘曲和因溅射升温导致的衬底褶皱问题；（2）配备了高压电子轰击棒和离子源对薄膜进行前处理及后处理，对增强薄膜结合力、提升薄膜结晶质量具有显著功效；（3）系统拥有包含直流靶、射频靶在内的多个靶位，并可同时工作，可提升薄膜沉积效率，更有利于多层膜系的沉积；（4）系统具备膜厚和透光率在线监测系统，便于薄膜数据的收集和质量控制。 该套卷对卷磁控溅射镀膜设备镀膜辊直径φ1200mm，最大幅宽450mm，靶材尺寸460×90×5mm，衬底温度范围-5~200℃。
服务内容：
按约定的方式提供服务
服务典型成果：
未透露
用户须知：
遵照中国科学院对外开发统一管理规定
收费标准：
根据样品情况面议