仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
将高精度的刻蚀和镀膜在同一真空腔中进行处理，且能精确控制薄膜厚度。同时具有摇摆和旋转功能保证刻蚀和镀膜的均匀性。
主要技术指标：
镀膜速度：碳材料0.5A/s@10keV，铬材料1.5A/s@10keV。刻蚀速度：硅材料10μm/hr@10keV，钨材料3um/hr@10keV。
服务内容：
将高精度的刻蚀和镀膜在同一真空腔中进行处理，且能精确控制薄膜厚度。同时具有摇摆和旋转功能保证刻蚀和镀膜的均匀性。
服务典型成果：
将高精度的刻蚀和镀膜在同一真空腔中进行处理，且能精确控制薄膜厚度。同时具有摇摆和旋转功能保证刻蚀和镀膜的均匀性。
用户须知：
样品尺寸小于1.25英寸；提前预约。
收费标准：
面议