仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
其刻蚀和溅射镀膜的样品满足扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM）以及光学显微镜（LM）的需求。
主要技术指标：
刻蚀范围：根据离子枪能量为7mm-10mm不等；刻蚀速率：10.0keV下，硅材料约10µm/小时，钨材料约3µm/小时；样本旋转速率：可变速率10-60rpm；样品倾斜角度：固定角度或可变摇摆角度（0°- 90°）；样品摇摆速率：可变速率5°/秒- 36°/秒；厚度监控器：标准-显示镀膜速率和全部镀膜厚度。
服务内容：
其刻蚀和溅射镀膜的样品满足扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM）以及光学显微镜（LM）的需求。
服务典型成果：
其刻蚀和溅射镀膜的样品满足扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM）以及光学显微镜（LM）的需求。
用户须知：
样品直径3cm以内，厚度2cm以内，且无磁性。
收费标准：
面议