仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于沉积多种薄膜（如：Al2O3, AlN, TiN, TiO2等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。
主要技术指标：
RF射频功率通过600 W,13.56 MHz的电源和自动调谐器提供。13英寸可加热气动升降铝反应室。8英寸样品加热板，最高加热温度500 ℃。各工艺气体的最大流量为100 sccm。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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