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苏州纳米科技发展有限公司
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去胶&清洗
型号:matrix
制造厂商:
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生产国别:
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
干法光阻去除
主要技术指标:
RF:0-1000W。 热板:100-250℃。
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
1. 晶圆类型:硅片 2. 晶圆尺寸:6寸(150mm) 3. 晶圆平边尺寸:57.5±2.5mm 4. 晶圆厚度:400-750um
收费标准:
询价
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