仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
可以开展标准的光刻工艺。主要应用于半导体器件、材料、高分子、化学、生物、石墨烯、复杂氧化物等领域。
主要技术指标：
样品面积为2寸，4寸，6寸标准片和碎片。灯源采用350W直流高压汞灯，波长使用为365nm为主的宽带光源，曝光最大面积150mm*150mm。 照明均匀度±4％，对准精度：±1微米。分辨率：1微米。 光刻版为3寸，4寸，5寸，7寸标准光刻版。注意最小的光刻版为3寸，2.5寸光刻版不适合本机台使用。
用途
紫外接近、接触式光刻制造小规模集成电路，半导体器件等 。
服务内容：
曝光图形转移
服务典型成果：
用户须知：
按照上海市规定对外共享
收费标准：
400元/小时，包括光刻胶费用，30分钟为基本时间单元。