电子束蒸发镀膜机
型号：KJLC PVD 75 E-BEAM THIN FILM DEPOSITION SYSTEM
制造厂商：KURT J.LESKER公司
购置日期：
生产国别：美国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。
主要技术指标：
可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。
蒸镀薄膜种类：Au, Ti, Cr, Ag, Al, Cu, FeNi, AuGe, Pt, Pb, In, Mo, SiO2等
极限真空：5E-8 Torr（ 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ）
薄膜均匀性：±4% （ 4英寸 ）
装片：小于6英寸的任意规格的样品若干
服务内容：
金属材料的蒸镀
服务典型成果：
用户须知：
每小时800元 60元/10nm (贵重金属)
收费标准：
面议