仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
通过直流或射频溅射各类金属及化合物靶材，可以沉积相应的薄膜。
主要技术指标：
本底真空度可达1*10-3Pa，可以双靶材共溅射。
服务内容：
功能薄膜和光学薄膜
服务典型成果：
用户须知：
按仪器操作规程操作
收费标准：
面议