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功能/应用范围：
该设备为三室立式结构的超高真空多功能磁控与离子束联合溅射镀膜制备设备，可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等。
主要技术指标：
服务内容：
服务典型成果：
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