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该设备为通用双离子束薄膜沉积系统，可用于溅射沉积各种金属、合金、化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。该设备为通用双离子束薄膜沉积系统，可用于溅射沉积各种金属、合金、化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。
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