仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于半导体晶圆刻蚀（干刻）工艺制作
主要技术指标：
刻蚀图形和速率可控
刻蚀尺寸精度高
刻蚀均匀性好
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
2000元/时