仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
采用射频离子源产生的离子束刻蚀装载在工作台上的样品，通过物理溅射及化学反应，使得部分样品材料在原子层面上连续被去除，完成光栅槽形的刻蚀。
主要技术指标：
真空指标
1 极限真空度*：≤9×10-5Pa
2 系统漏率*：1×10-7Pa.l/h
3 静态升压：系统停泵关机后12小时后，真空度≤5Pa
4 恢复真空：系统充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气抽至9×10-4Pa时间≤30min（新设备）
离子源配置及参数
1 离子束有效径径*：Φ16cm；
2 束流不均匀性*：≤±5%（Φ100mm范围内）
3 栅网结构：三栅（屏栅、加速栅、减速栅）
4 束流密度*：～3mA/cm2，连续可调；
5 离子能量*：100～1500eV，连续可调；
6 离子束激发：采用射频13.56MHz
7 电子中和：采用13.56MHz射频中和器。
8 可支持的离化气体：包括但不限于Ar、O2、SF6、CHF3。
工件台系统
1 传动系统
X-Y 两维滑台；θ轴水平旋转台（两套），其中一套适用于R50~200，另外一套适用于R200~350；
2 X、Y两维定位精度*：0.02mm
3 离子束入射角的调节精度*：
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
询价