仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
通过磁控溅射的方式，完成高质量的金属薄膜沉积。设备正常使用材料为Ti、Ni、Au。
主要技术指标：
通过磁控溅射的方式，完成高质量的金属薄膜沉积。设备正常使用材料为Ti、Ni、Au。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
500~2000